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세라믹 타겟은 반도체 장치, 태양 전지 및 광학 코팅을 포함한 다양한 박막의 제조에 사용되는 물리적 증기 증착 (PVD) 이라는 공정에 사용됩니다. 세라믹 타겟은 알루미나, 이산화티타늄, 지르코니아 및 이산화규소와 같은 재료로 구성된다. 그들은 높은 융점, 낮은 스퍼터링 속도 및 높은 순도를 가지므로 PVD 공정에서 사용하기에 인기가 있습니다. 세라믹 스퍼터링 타겟은 내구성이 뛰어나고 화학적으로 안정하며 열 및 마모에 강하므로 많은 산업 분야에 이상적인 선택입니다.
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